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電子級超純水設備運行中常見的三種污堵原因

時間:2024-11-29

  在電子制造業的精密生產流程中,電子級超純水設備扮演著至關重要的角色,其性能直接影響到半導體器件的品質與產量。然而,在長期運行過程中,電子級超純水設備可能會遇到若干“癥狀”,導致污堵問題,影響超純水的穩定供應。本文將深入剖析電子級超純水設備運行中常見的三種污堵原因,并提出相應的防范與應對策略。

  “癥狀”一:顆粒與膠體堵塞

  當進水中的顆粒物尺寸大于5微米時,這些顆粒會成為電子級超純水設備的首要障礙。它們不僅會堵塞進水流道,還可能導致EDI模塊內部水流分布不均,進而影響整個模塊的性能,降低產水效率與水質純度。為應對這一問題,建議前端預處理系統應加強過濾效能,采用精密過濾器,嚴格控制進水顆粒度,確保水源清潔。

  “癥狀”二:有機物污染

  有機物是另一個不容忽視的污堵因素。進水中若含有過量的總有機碳(TOC)或總提取物(TEA),會在離子交換樹脂和離子膜表面形成一層有機物覆蓋層,嚴重時可致模塊堵塞。因此,加強對進水有機物含量的監控,并適時采用活性炭吸附等方法去除有機污染物,是保持設備高效運行的關鍵。

  “癥狀”三:鹽類結垢

  當進水中的溶質濃度超標或系統回收率過高,可能導致鈣、鎂等離子與碳酸根結合,形成難溶的碳酸鹽垢,阻礙水流,影響產水質量。對此,合理設定系統回收率,并采用軟化或反滲透預處理步驟,有效去除原水中的硬度離子,是防止結垢的有效途徑。

超純水設備

  綜合應對策略

  面對上述“癥結”,定期的清洗與維護顯得尤為重要。制定科學的維護計劃,包括但不限于EDI模塊的化學清洗、樹脂的再生以及預處理系統的檢查與替換,能夠有效預防與緩解污堵情況。同時,培訓操作人員,確保他們熟悉設備操作規程,做好運行記錄,對異常情況能夠迅速響應,也是保證設備穩定運行不可或缺的一環。

  總之,電子級超純水設備的高效運維需要從源頭控制、過程監控到定期維護等多個方面綜合施策,以確保超純水的穩定供應,支撐電子工業的高質量發展。

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  編輯:虞美人  技術:加菲

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